央企文库

当前位置:首页 > 关于我们 > 私享空间

私享空间

[FTIR、MAS NMR和TG-DSC法研究分子筛表面接枝的硅烷基团] TG-DSC

2020-01-01 00:00:00私享空间
                                                                                                                   摘要:采用三甲基氯硅烷对介孔分子筛KIT-1进行了表面修饰。利用X射线粉末衍射(XRD)时样品进行了结构分析,用傅里叶变换红外光谱(FTIR)和核磁共振谱(MAS NMR)辅助热重-示差扫描量热(TG-DSC)法研究了硅

  摘要:采用三甲基氯硅烷对介孔分子筛KIT-1进行了表面修饰。利用X射线粉末衍射(XRD)时样品进行了结构分析,用傅里叶变换红外光谱(FTIR)和核磁共振谱(MASNMR)辅助热重-示差扫描量热(TG-DSC)法研究了硅烷基团在分子筛表面的情况。研究结果表明,表面修饰在保持分子筛介孔结构的同时,使硅烷基团成功接枝在分子筛孔道表面,热分析显示表面修饰样品失重6.14%,硅烷基团热分解时吸热577.9J/g。

  关键词:FTIR;MASNMR;TG-DSC;硅烷基团

  中图分类号:TQ264.1;O611.4 文献标识码:A

  文章编号:0367-6358(2008)05-272-03本文为全文原貌未安装PDF浏览器用户请先下载安装原版全文

……此处隐藏-616个字……

  摘要:采用三甲基氯硅烷对介孔分子筛KIT-1进行了表面修饰。利用X射线粉末衍射(XRD)时样品进行了结构分析,用傅里叶变换红外光谱(FTIR)和核磁共振谱(MASNMR)辅助热重-示差扫描量热(TG-DSC)法研究了硅烷基团在分子筛表面的情况。研究结果表明,表面修饰在保持分子筛介孔结构的同时,使硅烷基团成功接枝在分子筛孔道表面,热分析显示表面修饰样品失重6.14%,硅烷基团热分解时吸热577.9J/g。

  关键词:FTIR;MASNMR;TG-DSC;硅烷基团

  中图分类号:TQ264.1;O611.4 文献标识码:A

  文章编号:0367-6358(2008)05-272-03本文为全文原貌未安装PDF浏览器用户请先下载安装原版全文

文章评论